功率半导体电极铜盘研磨用白刚玉700目 WFA F400
在功率半导体器件的制造过程中，电极铜盘的表面平整度与洁净度直接关系到器件的散热效率、电流承载能力及长期可靠性。针对铜盘材料去除量大、表面要求高、易产生划伤等研磨难点。
白刚玉微粉专用于功率半导体电极铜盘的高效精密研磨。
化学成分-功率半导体电极铜盘研磨用白刚玉700目WFA F400
Al2O3 | Fe2O3 | Na2O | MgO | K2O | CaO | SiO2 |
≥99.38% | ≤0.06% | ≤0.27% | ≤0.01% | ≤0.02% | ≤0.03% | ≤0.10% |
物理特性-功率半导体电极铜盘研磨用白刚玉700目WFA F400
莫氏硬度 | 比重 | 堆积密度 | PH值 | 耐火度 |
9.0 | ≥3.90g/cm3 | 1.53-1.99g/cm3 | 7.0 | 2100℃ |
包装：25公斤袋装
主要用途：—喷砂 研磨 抛光等
—磨刀石，研磨石，油石等制品的生产
—抛光蜡，抛光液,胶粘剂等
—纽扣，手机壳，擦银棒等抛光研磨液，研磨剂等研磨介质
—耐磨地坪，耐磨胶粘剂，耐磨层比如玻璃钢耐磨衬板等
—陶瓷分离膜/陶瓷膜/陶瓷平板膜/平板式陶瓷膜/管式陶瓷膜/滤膜/膜组件
—金刚石砂轮等，金刚石工具干/水磨片，树脂磨片等的生产
—海绵抛光轮，纤维抛光轮，麻轮等的生产
